n? 新版ASME Y14.5M-2009的主要更新

l? 增加了新的概念和符號，例如：
雙邊不對等公差標注
移動基準(Moveable Datum Target)
自由輪廓基準

l? 澄清或拓展了1994版的概念，例如：
尺寸公差、規則#1，理論尺寸、同軸度控制

l? 解釋了1994版混淆和含糊的概念

l? 導入了美國ASME Y14系列中其它概念

n? GD&T介紹，符號和術語

l? 歷史，目的，范圍

l? 工程圖紙 (Engineering Drawing)

l? 標注標準 (Dimensioning Standard)

l? 實體原則和補償因子 (Material Condition)

l? 公差調整因子 (Modifier)

l? 傳統正負公差對標注位置的弊端

l? GD&T與傳統坐標的關系和差異

l? GD&T 層次(GD&T Hierarchy)

l? 形位公差之間的等級和相互約束關系

l? 半徑和可控半徑 (Controlled Radius)

公差介紹 (Tolerancing Introduction)

n? 規則和概念 (Rules and Concept)

l? 規則#1, #2 (Rule #1, #2)

l? 基本尺寸 (Basic Dimension)

l? 實效邊界條件 (Virtual Condition)

l? 材料實體原則: MMC/LMC/RFS

l? 公差補償 (Bonus Tolerance)

n? 基準 (Datum)

l? 基準的定義, 基準形體(Feature)

l? 基準的定義原則：裝配、檢測、加工、設計？

l? 基準的正確標注：杜絕含糊的基準標注

l? 基準錯誤標注對零件檢測的影響

l? 基準要素誤差對零件檢測結果判斷的影響

l? 基準模擬(Datum Simulator)

l? 符號位置(Symbol Placement)

l? 基準目標(Datum Target)

l? 基準指導(Datum Guidline)

l? 自由狀態(Free State)

l? 基準偏移 (Datum Shift)

l? 實體基準應用: RFS (FOS Datum: RFS)

l? 實體基準應用: MMC (FOS Datum: MMC)

l? 基準最大實體和最小實體對檢具的影響

l? 基準的實體補償對位置公差檢測的影響

n? 形狀公差 (Form)

l? 平面度 (Flatness)

l? 直線度 (Straightness)
直線度: 面 (Surface)
直線度: 中心面 (Center Surface)

l? 圓度 (Roundness)

l? 圓柱度 (Cylindricity)

l? 形狀公差之間的相互制約關系

l? 尺寸公差和形狀公差之間的相互制約關系

n? 定向公差 (Orientation)

l? 垂直度 (Perpendicularity)

l? 平行度 (Parallelism)

l? 傾斜度 (Angularity)

l? 切面公差 (Tangent Plane)

l? 尺寸公差和定向公差之間的相互關系

n? 定位公差 (Position)

l? 位置度定義 (TOP Definition)

l? 位置度要求 (TOP Theories)

l? 位置度應用: RFS (TOP: RFS)

l? 位置度應用: MMC (TOP: MMC)

l? 位置度計算: (TOP Calculation)

l? 復合位置 ( Composite Position)

l? 同軸度 (Coaxiality)：軸線位置控制

l? 對稱度 (Symmetry)：中面位置控制

l? 松動螺栓連接 (Fixed Fasteners)

l? 固定螺栓連接 (Floating Fasteners)

n? 輪廓 (Profile)

l? 面輪廓度 (Surface Profile)

l? 線輪廓度 (Line Profile)

l? 復合輪廓 (Composite Profile)

l? 共面法 (Coplanarity Applications)

l? 輪廓度計算 (Calculation)

n? 同心度和對稱度(Concentricity/Symmetry)

l? 同心度 (Concentricity)：中點位置控制

l? 對稱度 (Symmetry Control)：中點位置控制

l? 同心度和同軸的區別，測量的差異

n? 跳動度 (Runout)

l? 圓跳動度 (Circular Runout)

l? 全跳動度 (Total Runout)

l? 跳動度計算 (Calculation)

n? GD&T測量實現：傳統測量和CMM測量 (GD&T Measurement: 投影儀/CMM，該部分內容結合在所有的GD&T的講解過程中)

l? 測量基準建立 (Measurement Datum Setup)

l? 基準選擇對測量誤差的影響

l? 基準自身誤差對測量誤差的影響

l? 測量誤差分析 (Measure Error Analysis)

l? 形狀公差測量 (Form Measurement)

l? 定向公差測量 (Orientation Measurement)

l? 位置度測量 (TOP measurement)

l? 位置度基準建立 (TOP datum setup)

l? 復合位置測量 (Composite TOP Measurement)

l? 位置度應用實體原則的測量，包括公差補償和基準偏移(TOP with MMC/LMC Measurement, include Bonus Tolerance, Datum Shift)

l? 輪廓度測量(Profile Measurement)

l? 輪廓度基準建立 (Profile Datum Setup)

l? 輪廓度應用實體原則的測量：只有基準偏移 (Profile with MMC Measurement, Only Datum Shift)

n? 案例分析和練習包含在以上所有內容

n? 現場輔導：檢具設計(Gage), 測量分析(CMM)和圖紙理解(GD&T Print Reading)問題解答.